原位薄膜應力測量系統(tǒng)(kSA MOS Film Stress Measurement System)：采用非接觸激光MOS技術，不但可以對樣品表面應力分布進行統(tǒng)計分析，而且還可以進行樣品表面二維應力、曲率成像分析。您可自行定義選擇使用任意一個或者一組激光點進行測量，并且這種設計始終保持所有陣列的激光光點始終在同一頻率運動或掃描，從而有效的避免了外界振動對測試結果的影響，同時提高了測試的分辨率，適合各種材質和厚度薄膜應力分析。

典型用戶：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大學，中國計量科學院等、半導體和微電子制造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等；

相關產品
薄膜應力儀（kSA MOS 薄膜應力測量儀）：為獨立測量系統(tǒng)，同樣采用多光束MOS技術，詳細信息請與我們聯(lián)系。

設備名稱
原位薄膜應力測量系統(tǒng)，原位薄膜應力測試儀，原位薄膜應力計，薄膜應力儀，kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System;

主要特點

     ? 自主**技術：MOS 多光束傳感器技術（**號：US 7,391,523 B1）；

     ? 單 Port(樣品正上方)和雙 Port(對稱窗口)系統(tǒng)設計；

     ? 適合 MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸發(fā)系統(tǒng)等各種真空薄膜沉積系統(tǒng)以及熱處理設備等，也可將設備搭建在光學平臺上，用于監(jiān)測電極材料反應過程中的曲率/應力變化情況；

     ? 薄膜應力各向異性測試和分析功能；

     ? 實時光學反饋控制技術，系統(tǒng)安裝時可設置多個測試點；

     ? 免除了測量不受真空系統(tǒng)振動影響；

     ? 理想環(huán)境下曲率半徑分辨率 20km（依賴于腔體設計）;

     ? 應力測量范圍幾十 kPa~100Gpa；

     ? 多基片測量功能；（選件）

     ? 光學常數(shù) n&k 測量；（選件）

     ? 基片旋轉追蹤測量功能；（選件）

     ? 生長速率和薄膜厚度測量。（選件）

測試功能

     ? 薄膜生長過程中，實時、原位薄膜曲率-時間/膜厚度曲線；實時、原位薄膜應力-時間/膜厚度曲線；

     ? 鋰電池/燃料電池等電極材料在電解液中反應時，實時、原位薄膜曲率-時間/膜厚度變化曲線；實時、原位薄膜應力-時間/膜厚度曲線。

基本配置

     ? 12位單色CCD檢測系統(tǒng)：分辨率 1360(H) x 1024(V), 6.45μm x 6.45μm pixel size；；曝光時間可控10 μs to 77.3 s sec

     ? 激光和光學系統(tǒng)：激光波長660nm(可定制其他波長激光器)，激光功率>70mW，恒電流運行模式，穩(wěn)定性≤0.2%（8小時）；帶溫控的激光控制器（出廠設定溫度25°C），溫度穩(wěn)定性<0.2°C；

     ? 自動光學追蹤系統(tǒng)：當進行樣品測試時，用來追蹤伺服系統(tǒng)而檢測來自樣品表面反射光；

     ? 計算機、MOS數(shù)據采集和系統(tǒng)控制電路板；

     ? 測量分析軟件：數(shù)據采集，系統(tǒng)控制，自動激光光點檢測，實時曲率、曲率半徑、應力強度、應力數(shù)據采集和圖像顯示，分析功能多測試曲線對比分析、統(tǒng)計分析等，便捷的2D圖像顯示和調整功能，數(shù)據ASCII輸出。

實際應用