kSA SpectR是一種用于測量光譜反射率，L*a*b*成色值和生長速率的非接觸式測量設(shè)備。該工具具有多種在線監(jiān)控和過程控制的應(yīng)用功能，包括垂直腔表面發(fā)射激光器件（VCSEL），分布式布拉格反射器件（DBR）和其他一些復(fù)雜的半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)。該設(shè)備主要應(yīng)用于監(jiān)控測量sputtering，MBE和MOCVD等薄膜生產(chǎn)研究。

kSA SpectR的光學(xué)鏡組被配置為鏡面反射的幾何形狀。在這種測量原理中，薄膜每生長出一個新layer，程序就會自動擬合，將已有的所有基底和薄膜layer視為一個新的虛擬基底。

kSA SpectR可以同時以多個波長進行測量，每個波長都具有潛在的特性。此工具可在客戶選定的波長范圍內(nèi)測量自定義光譜特征，如反射率的Min值、Max值、拐點或基線散射水平。

k-Space公司的 CEO Darryl Barlett表示："與我們的許多設(shè)備一樣，此設(shè)備是由特定客戶直接定制所研發(fā)出來的。當客戶來找我們時，我們聽取了他們的詳細測量要求，然后設(shè)計了一個系統(tǒng)，結(jié)合了Sandia國家實驗室的新技術(shù)，根據(jù)客戶的應(yīng)用場景研制了該設(shè)備。"隨著薄膜層的復(fù)雜性的提高，為了提高產(chǎn)品的產(chǎn)量和性能，各種材料參數(shù)的測量越發(fā)重要。該系統(tǒng)有能力在復(fù)雜的薄膜結(jié)構(gòu)上進行測量，包括在DBR生長過程中確定Fabry-Perot dip等多種參數(shù)。

850 nm DBR的光譜反射率

在GaAs襯底上生長250nm的AlAs和500nm的GaAs時，532和940nm下的反射率及其擬合曲線

AlAs生長期間的生長速率，光學(xué)常數(shù)和反射率實時擬合曲線

AlAs和GaAs生長的未經(jīng)校正的高溫計測量結(jié)果和經(jīng)過校正的ECP溫度

GaAs薄膜生長過程中單個反射率振蕩周期圖